因为专业
所以领先
DBHi (Direct Bonded Heterogeneous Integration,直接键合异构集成)是IBM提出的一种基于硅桥芯片互连的先进封装技术,是一种基于直接键合的异构集成技术。这项技术旨在解决先进封装中互连密度、成本和可靠性问题,是芯片级异构集成的重要解决方案。

DBHi技术的核心是通过直接键合方式将硅桥与芯片连接,形成芯片-硅桥预制件,然后将预制件与基板进行封装。与传统封装方式不同,DBHi的硅桥不会被完全包封,而是直接与芯片形成互连结构。
DBHi与英特尔的EMIB技术存在几个关键差异:
| 特性 | EMIB | DBHi |
| 芯片上的凸点类型 | C4和C2两种类型 | 仅C4 bump |
| 硅桥上的凸点 | 无 | C2铜柱凸点 |
| 硅桥安装方式 | 嵌入基板腔中,完全包封 | 与芯片直接键合,不完全包封 |
| 基板结构 | 需要特殊腔体设计 | 常规基板即可,可选腔体结构 |
| 制造复杂度 | 较高 | 较低 |
DBHi的封装工艺主要包括以下步骤:
预制件制作:在硅桥上生长C2铜柱凸点,在芯片上生长C2球状凸点及焊盘
芯片-桥键合:使用非导电浆料(NCP)和热压缩键合(TCB)将芯片1与硅桥键合
芯片-桥键合:使用NCP和TCB将芯片2与硅桥键合,形成芯片1+桥+芯片2的模块
基板组装:将模块放置在带有腔结构的有机基板上,进行标准倒装焊(reflow)组装
保护处理:桥下填充可选,用于保护键合界面
硅桥上的BEOL级细间距互连可实现高带宽互连
通过匹配芯片和桥接器的CTE(热膨胀系数),实现约30µm的细间距互连接头
低BoM(物料清单)成本:使用标准间距基板,不需要大型硅中介层、细间距RDL或桥式嵌入式基板
与EMIB相比,基板设计更简单,制造流程更短
由于硅桥与芯片直接键合,减少了中间层的可靠性风险
避免了在基板中嵌入硅桥带来的应力问题
无需在基板上制造复杂的腔体结构
2023年,IBM在IEEE/ECTC上发表论文提出,甚至可以不需要在基板上加工腔结构,进一步简化工艺
2021-2022年:IBM在IEEE/ECTC会议上发表7篇关于DBHi的论文
2023年:IBM发表"直接键合异构集成(DBHi):用于芯片拼贴的表面桥技术"论文,提出可省略基板腔结构
DBHi技术适用于需要高带宽、低延迟、低功耗通信的芯片互连场景,特别适合:
多芯片系统集成
高性能计算(HPC)应用
人工智能加速器
芯粒(Chiplet)集成
DBHi技术与当前芯片封装行业的发展趋势高度契合:
与UCIe(通用芯粒互连)标准兼容,支持芯粒集成
作为替代传统TSV(硅通孔)中介层的方案,降低封装成本
与混合键合技术结合,可进一步提高互连密度
DBHi技术并非简单地将芯片并排摆放,而是通过一个嵌入式的硅桥(Si-Bridge)作为芯片间的“高速专用通道”。其结构和工作原理与传统2.5D封装有明显区别:
| 特性维度 | DBHi(直接键合异质集成) | 传统2.5D封装(如CoWoS) | Hybrid Bonding(混合键合) |
| 互连中介 | 嵌入式硅桥,键合在芯片侧下方。 | 大型硅中介层,芯片整体置于其上。 | 无中介,芯片面对面直接键合。 |
| 互连方式 | 芯片与硅桥通过微米级铜柱连接。 | 芯片与中介层通过微凸块连接。 | 铜-铜、介质-介质的直接键合,无凸块。 |
| 互连密度 | 极高,焊点节距可达30微米。 | 高,但通常大于DBHi。 | 极致,可达到微米甚至亚微米级。 |
| 结构特点 | 局部互连,硅桥仅连接芯片边缘需要高带宽的区域,无需在基板上开槽。 | 全局互连,中介层覆盖整个芯片区域,布线灵活。 | 3D堆叠,实现芯片的垂直集成,最节省面积。 |
| 技术定位 | 针对芯片间超高速互连的优化方案,平衡性能、复杂度和成本。 | 成熟的多芯片高密度集成平台。 | 终极3D集成方案,追求最高密度和性能,工艺挑战最大。 |
DBHi:硅桥与芯片直接键合,基板结构简单,成本更低
EMIB:硅桥嵌入基板腔体,需要复杂基板制造,成本较高
DBHi:硅桥与芯片直接键合,不需要嵌入基板
LSI:硅桥嵌入基板中的EMC(嵌入式模塑料)层,需在基板中制造腔体
DBHi:使用C4和C2凸点,互连间距较大
混合键合:使用Cu-Cu直接键合,可实现更小间距(约8µm)和更高密度
DBHi技术代表了先进封装中硅桥互连技术的创新方向,其简化的设计和制造流程使其在成本敏感的应用中具有明显优势。随着Chiplet(芯粒)架构的普及,DBHi等硅桥互连技术将在异构集成中扮演越来越重要的角色。
IBM在DBHi技术上的持续创新,特别是2023年提出可省略基板腔结构的改进,进一步降低了技术复杂度和成本,为DBHi技术的商业化应用铺平了道路。随着UCIe等标准的推广,DBHi有望成为Chiplet集成的主流方案之一。
DBHi技术通过直接键合方式将硅桥与芯片连接,避免了传统封装中复杂的硅中介层和基板结构,显著降低了制造成本,同时保持了高性能的互连特性。其核心优势在于:
简化的封装基板设计
低成本的制造工艺
高可靠性的互连结构
与行业标准的兼容性
随着Chiplet架构的普及和先进封装技术的发展,DBHi技术有望在高性能计算、人工智能和数据中心等领域得到广泛应用。
Chiplet芯片清洗- 锡膏助焊剂清洗剂介绍:
水基清洗的工艺和设备配置选择对清洗精密器件尤其重要,一旦选定,就会作为一个长期的使用和运行方式。水基清洗剂必须满足清洗、漂洗、干燥的全工艺流程。
污染物有多种,可归纳为离子型和非离子型两大类。离子型污染物接触到环境中的湿气,通电后发生电化学迁移,形成树枝状结构体,造成低电阻通路,破坏了电路板功能。非离子型污染物可穿透PC B 的绝缘层,在PCB板表层下生长枝晶。除了离子型和非离子型污染物,还有粒状污染物,例如焊料球、焊料槽内的浮点、灰尘、尘埃等,这些污染物会导致焊点质量降低、焊接时焊点拉尖、产生气孔、短路等等多种不良现象。
这么多污染物,到底哪些才是最备受关注的呢?助焊剂或锡膏普遍应用于回流焊和波峰焊工艺中,它们主要由溶剂、润湿剂、树脂、缓蚀剂和活化剂等多种成分,焊后必然存在热改性生成物,这些物质在所有污染物中的占据主导,从产品失效情况来而言,焊后残余物是影响产品质量最主要的影响因素,离子型残留物易引起电迁移使绝缘电阻下降,松香树脂残留物易吸附灰尘或杂质引发接触电阻增大,严重者导致开路失效,因此焊后必须进行严格的清洗,才能保障电路板的质量。
研发的水基清洗剂配合合适的清洗工艺能为芯片封装前提供洁净的界面条件。
运用自身原创的产品技术,满足芯片封装工艺制程清洗的高难度技术要求,打破国外厂商在行业中的垄断地位,为芯片封装材料全面国产自主提供强有力的支持。
推荐使用 水基清洗剂产品。
致力于为SMT电子表面贴装清洗、功率电子器件清洗及先进封装清洗提供高品质、高技术、高价值的产品和服务。 (13691709838)Unibright 是一家集研发、生产、销售为一体的国家高新技术、专精特新企业,具有二十多年的水基清洗工艺解决方案服务经验,掌握电子制程环保水基清洗核心技术。水基技术产品覆盖从半导体芯片封测到 PCBA 组件终端的清洗应用。是IPC-CH-65B CN《清洗指导》标准的单位。 全系列产品均为自主研发,具有深厚的技术开发能力,拥有五十多项知识产权、专利,是国内为数不多拥有完整的电子制程清洗产品链的公司。 致力成为芯片、电子精密清洗剂的领先者。以国内自有品牌,以完善的服务体系,高效的经营管理机制、雄厚的技术研发实力和产品价格优势,为国内企业、机构提供更好的技术服务和更优质的产品。 的定位不仅是精湛技术产品的提供商,另外更具价值的是能为客户提供可行的材料、工艺、设备综合解决方案,为客户解决各类高端精密电子、芯片封装制程清洗中的难题,理顺工艺,提高良率,成为客户可靠的帮手。
凭借精湛的产品技术水平受邀成为国际电子工业连接协会技术组主席单位,编写全球首部中文版《清洗指导》IPC标准(标准编号:IPC-CH-65B CN)(“Guidelines for Cleaning of Printed Boards and Assemblies”),IPC标准是全球电子行业优先选用标准,是集成电路材料产业技术创新联盟会员成员。
主营产品包括:集成电路与先进封装清洗材料、电子焊接助焊剂、电子环保清洗设备、电子辅料等。
半导体技术应用节点:FlipChip ;2D/2.5D/3D堆叠集成;COB绑定前清洗;晶圆级封装;高密度SIP焊后清洗;功率电子清洗。