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DBHi先进封装工艺详解及 多芯片封装清洗剂介绍

👁 1852 Tags:Chiplet芯片清洗硅桥芯片清洗先进封装清洗

DBHi先进封装工艺详细介绍

DBHi (Direct Bonded Heterogeneous Integration,直接键合异构集成)是IBM提出的一种基于硅桥芯片互连的先进封装技术,是一种基于直接键合的异构集成技术。这项技术旨在解决先进封装中互连密度、成本和可靠性问题,是芯片级异构集成的重要解决方案。

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核心原理与特点

1. 基本工作原理

DBHi技术的核心是通过直接键合方式将硅桥与芯片连接,形成芯片-硅桥预制件,然后将预制件与基板进行封装。与传统封装方式不同,DBHi的硅桥不会被完全包封,而是直接与芯片形成互连结构。

2. 与EMIB的关键区别

DBHi与英特尔的EMIB技术存在几个关键差异:

特性EMIBDBHi
芯片上的凸点类型C4和C2两种类型仅C4 bump
硅桥上的凸点C2铜柱凸点
硅桥安装方式嵌入基板腔中,完全包封与芯片直接键合,不完全包封
基板结构需要特殊腔体设计常规基板即可,可选腔体结构
制造复杂度较高较低

3. 工艺流程

DBHi的封装工艺主要包括以下步骤:

  1. 预制件制作:在硅桥上生长C2铜柱凸点,在芯片上生长C2球状凸点及焊盘

  2. 芯片-桥键合:使用非导电浆料(NCP)和热压缩键合(TCB)将芯片1与硅桥键合

  3. 芯片-桥键合:使用NCP和TCB将芯片2与硅桥键合,形成芯片1+桥+芯片2的模块

  4. 基板组装:将模块放置在带有腔结构的有机基板上,进行标准倒装焊(reflow)组装

  5. 保护处理:桥下填充可选,用于保护键合界面

4. 工艺优势

(1) 高性能互连

  • 硅桥上的BEOL级细间距互连可实现高带宽互连

  • 通过匹配芯片和桥接器的CTE(热膨胀系数),实现约30µm的细间距互连接头

(2) 降低成本

  • 低BoM(物料清单)成本:使用标准间距基板,不需要大型硅中介层、细间距RDL或桥式嵌入式基板

  • 与EMIB相比,基板设计更简单,制造流程更短

(3) 提高可靠性

  • 由于硅桥与芯片直接键合,减少了中间层的可靠性风险

  • 避免了在基板中嵌入硅桥带来的应力问题

(4) 工艺简化

  • 无需在基板上制造复杂的腔体结构

  • 2023年,IBM在IEEE/ECTC上发表论文提出,甚至可以不需要在基板上加工腔结构,进一步简化工艺

技术发展与应用

1. 发展历程

  • 2021-2022年:IBM在IEEE/ECTC会议上发表7篇关于DBHi的论文

  • 2023年:IBM发表"直接键合异构集成(DBHi):用于芯片拼贴的表面桥技术"论文,提出可省略基板腔结构

2. 应用场景

DBHi技术适用于需要高带宽、低延迟、低功耗通信的芯片互连场景,特别适合:

  • 多芯片系统集成

  • 高性能计算(HPC)应用

  • 人工智能加速器

  • 芯粒(Chiplet)集成

3. 与行业趋势的结合

DBHi技术与当前芯片封装行业的发展趋势高度契合:

  • 与UCIe(通用芯粒互连)标准兼容,支持芯粒集成

  • 作为替代传统TSV(硅通孔)中介层的方案,降低封装成本

  • 与混合键合技术结合,可进一步提高互连密度

核心原理与技术特点

DBHi技术并非简单地将芯片并排摆放,而是通过一个嵌入式的硅桥(Si-Bridge)作为芯片间的“高速专用通道”。其结构和工作原理与传统2.5D封装有明显区别:

特性维度DBHi(直接键合异质集成)传统2.5D封装(如CoWoS)Hybrid Bonding(混合键合)
互连中介嵌入式硅桥,键合在芯片侧下方。大型硅中介层,芯片整体置于其上。无中介,芯片面对面直接键合。
互连方式芯片与硅桥通过微米级铜柱连接。芯片与中介层通过微凸块连接。铜-铜、介质-介质的直接键合,无凸块。
互连密度极高,焊点节距可达30微米。高,但通常大于DBHi。极致,可达到微米甚至亚微米级。
结构特点局部互连,硅桥仅连接芯片边缘需要高带宽的区域,无需在基板上开槽。全局互连,中介层覆盖整个芯片区域,布线灵活。3D堆叠,实现芯片的垂直集成,最节省面积。
技术定位针对芯片间超高速互连的优化方案,平衡性能、复杂度和成本。成熟的多芯片高密度集成平台。终极3D集成方案,追求最高密度和性能,工艺挑战最大。

与同类技术对比

1. 与EMIB对比

  • DBHi:硅桥与芯片直接键合,基板结构简单,成本更低

  • EMIB:硅桥嵌入基板腔体,需要复杂基板制造,成本较高

2. 与台积电LSI对比

  • DBHi:硅桥与芯片直接键合,不需要嵌入基板

  • LSI:硅桥嵌入基板中的EMC(嵌入式模塑料)层,需在基板中制造腔体

3. 与混合键合技术对比

  • DBHi:使用C4和C2凸点,互连间距较大

  • 混合键合:使用Cu-Cu直接键合,可实现更小间距(约8µm)和更高密度

技术前景

DBHi技术代表了先进封装中硅桥互连技术的创新方向,其简化的设计和制造流程使其在成本敏感的应用中具有明显优势。随着Chiplet(芯粒)架构的普及,DBHi等硅桥互连技术将在异构集成中扮演越来越重要的角色。

IBM在DBHi技术上的持续创新,特别是2023年提出可省略基板腔结构的改进,进一步降低了技术复杂度和成本,为DBHi技术的商业化应用铺平了道路。随着UCIe等标准的推广,DBHi有望成为Chiplet集成的主流方案之一。

总结

DBHi技术通过直接键合方式将硅桥与芯片连接,避免了传统封装中复杂的硅中介层和基板结构,显著降低了制造成本,同时保持了高性能的互连特性。其核心优势在于:

  1. 简化的封装基板设计

  2. 低成本的制造工艺

  3. 高可靠性的互连结构

  4. 与行业标准的兼容性

随着Chiplet架构的普及和先进封装技术的发展,DBHi技术有望在高性能计算、人工智能和数据中心等领域得到广泛应用。


Chiplet芯片清洗- 锡膏助焊剂清洗剂介绍:

水基清洗的工艺和设备配置选择对清洗精密器件尤其重要,一旦选定,就会作为一个长期的使用和运行方式。水基清洗剂必须满足清洗、漂洗、干燥的全工艺流程。

污染物有多种,可归纳为离子型和非离子型两大类。离子型污染物接触到环境中的湿气,通电后发生电化学迁移,形成树枝状结构体,造成低电阻通路,破坏了电路板功能。非离子型污染物可穿透PC B 的绝缘层,在PCB板表层下生长枝晶。除了离子型和非离子型污染物,还有粒状污染物,例如焊料球、焊料槽内的浮点、灰尘、尘埃等,这些污染物会导致焊点质量降低、焊接时焊点拉尖、产生气孔、短路等等多种不良现象。

这么多污染物,到底哪些才是最备受关注的呢?助焊剂或锡膏普遍应用于回流焊和波峰焊工艺中,它们主要由溶剂、润湿剂、树脂、缓蚀剂和活化剂等多种成分,焊后必然存在热改性生成物,这些物质在所有污染物中的占据主导,从产品失效情况来而言,焊后残余物是影响产品质量最主要的影响因素,离子型残留物易引起电迁移使绝缘电阻下降,松香树脂残留物易吸附灰尘或杂质引发接触电阻增大,严重者导致开路失效,因此焊后必须进行严格的清洗,才能保障电路板的质量。

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