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微系统器件(如AI/HPC芯片、传感器、射频模块等)的先进封装架构正从传统的“芯片保护与连接”角色,演变为“系统整合与性能提升”的核心。其演变趋势可概括为以下几个方向。

摩尔定律放缓:晶体管微缩收益递减,封装成为提升系统性能的关键。
异构计算需求:AI、HPC、5G等应用需集成不同工艺、功能的芯片。
小型化与多功能:穿戴设备、物联网等要求封装在更小空间内实现更多功能。
带宽与能效要求:数据量爆发推动高密度互连、低延迟、低功耗封装方案。
| 技术 | 关键特点 | 应用场景 |
| 2.5D封装 | 使用硅中介层(Si interposer)实现多芯粒水平集成;依赖TSV、凸点、RDL等互连结构。 | AI加速卡、高性能GPU(如CoWoS) |
| 3D封装 | 芯粒垂直堆叠,直接通过TSV、混合键合实现短距离互连,突破单芯片面积限制。 | 高带宽内存(HBM)、3D堆叠逻辑芯片 |
微系统封装技术已从传统的"0-3级"封装发展为更精细化的系统级架构。根据封装技术的层次演变:
0级封装:晶圆切割成独立芯片(Die),涉及划片工艺和表面清洁
1级封装(芯片级封装):包括装片、键合、塑封等,形成TSOP、BGA等标准封装体
2级封装(模块集成):将封装后的芯片安装在PCB或陶瓷基板上,构建功能模块
3级封装(系统集成):将多个模块集成到主板,完成整机系统组装

微系统封装已从单纯的保护功能发展为系统级集成的核心,通过SIP(系统级封装)技术将多个芯片和无源元件集成在一个封装体内,实现更高集成度和更复杂功能。
TSV(硅通孔)技术:实现芯片垂直堆叠,突破摩尔定律限制
Fan-Out工艺:实现芯片的扇出封装,提升I/O密度
3D封装:通过堆叠多个芯片或功能模块,实现更高集成度
倒装芯片封装(Flip Chip):缩短信号传输路径,提高信号传输速度和稳定性
EMIB(Embedded Multi-die Interconnect Bridge):2.5D封装技术,实现多芯片互联
CoWoS:台积电的先进封装技术,高带宽特性主导HPC芯片封装
玻璃基板封装(GCP):沃格光电开发的玻璃电路板技术,具有成本低、表面平整度高、尺寸稳定性强等优势
面板级封装(Panel-Level):Rapidus在2025年SEMICON Japan展会上展示的采用600×600毫米玻璃基板的面板级封装

通过TSV和Fan-Out工艺实现芯片垂直堆叠,突破摩尔定律限制
异质集成打破材料、工艺和功能界限,将不同材料、工艺和功能的芯片集成在一起
典型案例:HBM存储器、Chiplet设计、3D IC
5G和AI芯片推动倒装焊、玻璃基板等技术的应用
信号传输速率突破20Gbps,满足高速数据处理需求
共封装光器件(CPO)技术正成为重要发展方向,通过将光纤集成到芯片封装中提升GPU集群性能
开发高热导率材料(如石墨烯复合材料)和液冷封装结构
应对3D封装带来的热密度提升,解决散热难题
为高功率AI芯片提供可靠的热管理方案
WLCSP(晶圆级封装)和SiP技术将封装尺寸缩小至芯片级别
应用于可穿戴设备、物联网传感器等小型化设备
异构集成实现不同工艺节点、不同功能芯片的高效集成
针对航空航天、汽车电子等场景,开发耐高温(>200℃)、抗辐射的陶瓷封装和金属封装
为高可靠性应用提供保障,如汽车电子、军工设备
通过Panel-Level封装提升生产效率
采用铜柱凸点替代金线键合降低材料成本
混合键合技术逐步从小众应用转向大规模生产
2021年全球封装市场规模约777亿美元,2025年有望达到850亿美元
2021年全球先进封装市场占比达45%,年营业收入约350亿美元
市场集中度明显,前十大厂商市场份额约80%
2025-2026年:玻璃基板封装技术加速产业化,从有机基板向玻璃基板转型
2026-2027年:玻璃基板凭借更优异的平整度和热稳定性,适用于AI芯片需求
2027-2030年:混合键合技术大规模应用,Intel Foveros Direct技术量产,单设备可集成1万亿晶体管
中科芯:研制出国内首款1500Pin/2000Pin气密性陶瓷封装电路
中微公司:发布CCP刻蚀及TSV深硅通孔设备
沃格光电:开发全球领先的玻璃电路板(GCP)全制程工艺
Rapidus:2025年展示采用600×600毫米玻璃基板的面板级封装原型,计划2028年前投入大规模生产
微系统器件先进封装架构正从传统的"封装保护"向"系统集成"转变,其演变趋势呈现出以下特点:
从二维向三维演进:通过TSV、Fan-Out等技术实现芯片垂直堆叠,突破摩尔定律限制
从同质向异质融合:打破材料、工艺和功能界限,实现多材料、多工艺集成
从成本导向向性能导向转变:为AI、5G等高性能应用提供高带宽、低延迟的封装解决方案
从单一技术向系统化技术发展:封装技术与材料、工艺、设备协同发展
随着AI、5G、物联网等应用的快速发展,先进封装技术将成为半导体产业发展的关键驱动力,预计未来十年将持续突破,推动微系统器件向更高集成度、更小尺寸、更优性能方向发展。玻璃基板封装技术的兴起,以及CPO等新型封装技术的应用,将为微系统封装带来新的变革机遇。
微系统器件封装清洗剂- 锡膏助焊剂清洗剂介绍:
水基清洗的工艺和设备配置选择对清洗精密器件尤其重要,一旦选定,就会作为一个长期的使用和运行方式。水基清洗剂必须满足清洗、漂洗、干燥的全工艺流程。
污染物有多种,可归纳为离子型和非离子型两大类。离子型污染物接触到环境中的湿气,通电后发生电化学迁移,形成树枝状结构体,造成低电阻通路,破坏了电路板功能。非离子型污染物可穿透PC B 的绝缘层,在PCB板表层下生长枝晶。除了离子型和非离子型污染物,还有粒状污染物,例如焊料球、焊料槽内的浮点、灰尘、尘埃等,这些污染物会导致焊点质量降低、焊接时焊点拉尖、产生气孔、短路等等多种不良现象。
这么多污染物,到底哪些才是最备受关注的呢?助焊剂或锡膏普遍应用于回流焊和波峰焊工艺中,它们主要由溶剂、润湿剂、树脂、缓蚀剂和活化剂等多种成分,焊后必然存在热改性生成物,这些物质在所有污染物中的占据主导,从产品失效情况来而言,焊后残余物是影响产品质量最主要的影响因素,离子型残留物易引起电迁移使绝缘电阻下降,松香树脂残留物易吸附灰尘或杂质引发接触电阻增大,严重者导致开路失效,因此焊后必须进行严格的清洗,才能保障电路板的质量。
研发的水基清洗剂配合合适的清洗工艺能为芯片封装前提供洁净的界面条件。
运用自身原创的产品技术,满足芯片封装工艺制程清洗的高难度技术要求,打破国外厂商在行业中的垄断地位,为芯片封装材料全面国产自主提供强有力的支持。
推荐使用 水基清洗剂产品。
致力于为SMT电子表面贴装清洗、功率电子器件清洗及先进封装清洗提供高品质、高技术、高价值的产品和服务。 (13691709838)Unibright 是一家集研发、生产、销售为一体的国家高新技术、专精特新企业,具有二十多年的水基清洗工艺解决方案服务经验,掌握电子制程环保水基清洗核心技术。水基技术产品覆盖从半导体芯片封测到 PCBA 组件终端的清洗应用。是IPC-CH-65B CN《清洗指导》标准的单位。 全系列产品均为自主研发,具有深厚的技术开发能力,拥有五十多项知识产权、专利,是国内为数不多拥有完整的电子制程清洗产品链的公司。 致力成为芯片、电子精密清洗剂的领先者。以国内自有品牌,以完善的服务体系,高效的经营管理机制、雄厚的技术研发实力和产品价格优势,为国内企业、机构提供更好的技术服务和更优质的产品。 的定位不仅是精湛技术产品的提供商,另外更具价值的是能为客户提供可行的材料、工艺、设备综合解决方案,为客户解决各类高端精密电子、芯片封装制程清洗中的难题,理顺工艺,提高良率,成为客户可靠的帮手。
凭借精湛的产品技术水平受邀成为国际电子工业连接协会技术组主席单位,编写全球首部中文版《清洗指导》IPC标准(标准编号:IPC-CH-65B CN)(“Guidelines for Cleaning of Printed Boards and Assemblies”),IPC标准是全球电子行业优先选用标准,是集成电路材料产业技术创新联盟会员成员。
主营产品包括:集成电路与先进封装清洗材料、电子焊接助焊剂、电子环保清洗设备、电子辅料等。
半导体技术应用节点:FlipChip ;2D/2.5D/3D堆叠集成;COB绑定前清洗;晶圆级封装;高密度SIP焊后清洗;功率电子清洗。
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