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关于半导体芯片类型和封装技术的详细介绍。这两个领域是半导体产业的核心,并且都在飞速发展中。

芯片类型通常根据其功能和集成规模来划分。以下是主要的分类:
这是最直观的分类方式,根据芯片在电子系统中扮演的角色来区分。
微处理器
CPU:中央处理器,用于通用计算,是PC、服务器的核心。
GPU:图形处理器,最初为图形渲染设计,现在广泛应用于AI、高性能计算。
APU/SoC:将CPU、GPU、内存控制器等集成在一起的处理器,常见于手机、平板。
描述:计算机系统的“大脑”,负责执行指令和处理数据。
例子:
存储器
DRAM:动态随机存取存储器,需要定时刷新,用作系统主内存(如电脑内存条)。
NAND Flash:非易失性存储器,断电后数据不丢失,用于SSD、U盘、手机存储。
NOR Flash:非易失性存储器,允许字节级随机访问,常用于存储固件代码。
描述:用于存储数据和程序。
例子:
逻辑芯片
描述:处理数字信号,执行特定的逻辑运算和控制功能。
例子:各种专用集成电路、门电路等,是数字系统的基础。
模拟芯片
电源管理芯片:负责设备的供电、电池充电和电量管理。
数据转换器:如ADC和DAC,实现模拟信号与数字信号的相互转换。
射频芯片:用于处理无线信号,如手机中的4G/5G信号。
描述:处理连续变化的模拟信号,如声音、温度、光线等。
例子:
微控制器
描述:一个集成了CPU、内存和I/O接口的微型计算机系统,用于嵌入式控制和自动化。
例子:汽车电子、智能家电、工业机器中的控制核心。
传感器
描述:将物理世界的信息(如光、运动、压力、温度)转换为电信号。
例子:CMOS图像传感器、MEMS加速度计、指纹传感器。
功率器件
描述:专门用于处理和高效率转换电能的半导体器件。
例子:MOSFET、IGBT,广泛应用于电源、电动汽车、工业控制。
这反映了芯片上晶体管数量的多少和电路的复杂程度。
小规模集成电路
中规模集成电路
大规模集成电路
超大规模集成电路 - 现代绝大多数芯片都属于此类。
特大规模集成电路
巨大规模集成电路
通用芯片:如CPU、GPU,设计用于处理各种任务。
专用集成电路:为特定应用量身定制,性能高、功耗低,但设计成本高、周期长。
片上系统:将整个系统的主要功能集成到单一芯片上,是当前移动设备和物联网设备的主流。
可编程逻辑器件 / FPGA:硬件功能可以在制造后通过编程来定义,非常灵活,适用于原型设计和特定加速。

封装是为芯片提供保护、供电、散热、信号互连并与外部电路板连接的技术。封装技术直接影响着芯片的性能、功耗、可靠性和成本。
封装技术种类极其繁多,可以从结构、集成度和终端形态等多个维度进行分类。
这类技术成熟、成本低,广泛应用于对性能要求不极高的领域。
DIP
描述:双列直插式封装,引脚从封装两侧引出,可插入插座或焊接。
特点:体积大,引脚数少,适用于早期微处理器和简单IC。
SOP / SOIC
描述:小外形封装,是DIP的表面贴装版本。
特点:体积小,适合自动化生产,是目前应用最广泛的封装形式之一。
QFP / LQFP
描述:四侧引脚扁平封装,引脚从四个侧面引出。
特点:引脚数比SOP多,常用于微控制器等。
QFN / DFN
描述:四侧无引脚扁平封装,底部有裸露的焊盘与PCB连接。
特点:体积小、热性能好、电感低,广泛应用于空间受限的便携设备。
BGA
描述:球栅阵列封装,以封装底部的焊球阵列代替引脚。
特点:引脚数大大增加,解决了QFP引脚间距过细的问题。是目前高性能芯片(如CPU、GPU、高端FPGA)的主流封装形式。
衍生:eWLB 等。
随着摩尔定律放缓,通过缩小晶体管尺寸来提升性能变得愈发困难和昂贵。“超越摩尔” 的路线变得重要,即通过先进封装技术,将多个芯片在系统级别进行集成,以继续提升整体性能、降低功耗、缩小尺寸。
WLP
描述:直接在晶圆上进行大部分或全部的封装制程,完成后再切割成单个芯片。
特点:封装尺寸小,电性能好,主要用于传感器、电源管理IC和射频芯片。
类型:扇入型,扇出型。
Fan-Out WLP
描述:扇出型晶圆级封装,是WLP的进阶。它允许I/O触点“扇出”到芯片裸片物理尺寸之外的区域。
特点:可以在不增加封装尺寸的情况下增加I/O数量,实现更高密度的互连。苹果A系列处理器是典型应用。
2.5D 封装
描述:将多个芯片并排放置在一种称为硅中介层 的基板上。中介层内部有高密度的硅通孔,充当芯片之间的“超级高速公路”。
特点:实现了芯片间的高速、高带宽互连,同时避免了将不同工艺的芯片直接集成在一起的困难。
代表技术:台积电的 CoWoS,英特尔的 EMIB。
3D 封装
HBM:高带宽存储器,将多个DRAM芯片堆叠在一起,通过TSV与底部的逻辑芯片(如GPU)连接,为AI和图形处理提供巨大带宽。
SoIC:台积电的3D芯片堆叠技术。
描述:将多个芯片在垂直方向上堆叠起来,并通过TSV 直接连接。
特点:极大地缩短了互连长度,实现了最高的集成密度和能效。
应用:
Chiplets / 小芯片
描述:一种设计理念,而非单一的封装技术。它将一个大型SoC拆分成多个更小的、功能单一的“小芯片”,然后通过先进封装(如2.5D/3D)集成在一起。
优势:提升良率、降低成本、实现“混搭”,允许使用不同制程工艺的芯片。
代表:AMD的Ryzen和EPYC处理器是Chiplet架构的成功典范。UCIe 联盟旨在建立小芯片互连的全球标准。
SiP
描述:系统级封装,是一个广义概念。它将多个不同功能的芯片(如处理器、存储器、无源元件)集成在一个封装内,形成一个完整的系统或子系统。
特点:它可以使用任何封装技术(从传统到先进)来实现。苹果Apple Watch中的S系列芯片是SiP的典型例子。
| 维度 | 分类 | 主要特点/例子 |
| 芯片类型 | 微处理器 | CPU, GPU, APU (系统的大脑) |
| 存储器 | DRAM, NAND Flash (数据存储) | |
| 模拟/电源芯片 | 电源管理,数据转换器 (处理现实世界信号) | |
| 微控制器 | MCU (嵌入式控制核心) | |
| 传感器 | CMOS, MEMS (感知物理世界) | |
| ASIC / SoC | 专用芯片,片上系统 (高性能/高集成度) | |
| 封装技术 | 传统封装 | DIP, SOP, QFP, QFN, BGA (成熟、成本低) |
| 先进封装 | Fan-Out WLP (高密度I/O), 2.5D/3D (高带宽/高密度), Chiplets (模块化设计), SiP (系统集成) |
总而言之,半导体技术的发展正从“如何制造一颗更强大的芯片”转向“如何将多颗芯片更好地集成在一起”。芯片设计与封装技术的协同优化,已成为推动未来计算性能持续提升的关键驱动力。
水基清洗的工艺和设备配置选择对清洗精密器件尤其重要,一旦选定,就会作为一个长期的使用和运行方式。水基清洗剂必须满足清洗、漂洗、干燥的全工艺流程。
污染物有多种,可归纳为离子型和非离子型两大类。离子型污染物接触到环境中的湿气,通电后发生电化学迁移,形成树枝状结构体,造成低电阻通路,破坏了电路板功能。非离子型污染物可穿透PC B 的绝缘层,在PCB板表层下生长枝晶。除了离子型和非离子型污染物,还有粒状污染物,例如焊料球、焊料槽内的浮点、灰尘、尘埃等,这些污染物会导致焊点质量降低、焊接时焊点拉尖、产生气孔、短路等等多种不良现象。
这么多污染物,到底哪些才是最备受关注的呢?助焊剂或锡膏普遍应用于回流焊和波峰焊工艺中,它们主要由溶剂、润湿剂、树脂、缓蚀剂和活化剂等多种成分,焊后必然存在热改性生成物,这些物质在所有污染物中的占据主导,从产品失效情况来而言,焊后残余物是影响产品质量最主要的影响因素,离子型残留物易引起电迁移使绝缘电阻下降,松香树脂残留物易吸附灰尘或杂质引发接触电阻增大,严重者导致开路失效,因此焊后必须进行严格的清洗,才能保障电路板的质量。
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