因为专业
所以领先

氮化镓(GaN)作为第三代半导体材料,具有高电子迁移率、高击穿电场和高热导率等优异特性,广泛应用于功率器件、LED照明和射频领域。然而,GaN芯片的封装面临散热、可靠性及高频性能保持等特殊挑战,先进封装技术成为释放GaN芯片全部潜能的关键环节。
技术特点:将芯片发光面或工作面朝下,直接与基板相连
优势:减少热传导路径,提高散热效率;避免金线键合带来的热阻和可靠性问题
应用:高功率GaN基LED、功率半导体器件
技术特点:采用无引线键合技术,通过金属球连接内部电路与外部电路
优势:高封装效率、良好散热性能、紧凑尺寸
案例:EPC公司的EPC33110三相电机驱动模块采用6×6.5mm QFN封装,支持高达80V输入电压,每相提供20ARMS功率
技术特点:兼顾欧姆接触、反光特性、粘接特性和可靠性
应用:解决银反射镜与p-GaN粘附不牢且接触电阻大的问题
优势:优化焊接技术,获得牢固结合,解决裂纹问题
导热硅脂:具有良好流动性和填充性
导热凝胶:更好的可靠性和耐久性
相变材料:在达到相变温度时吸收大量热量,提高散热效率
微通道散热结构:在基板或封装外壳中设计微通道,通过循环冷却液带走热量
双面散热设计:如智威科技的封装技术,芯片上下两面均直接导接铜基板,散热基板面积比高达150-180%
大面积焊接:取代传统打线导接,大幅提升导电率与热传导效率
高热导率陶瓷基板:如英飞凌CoolGaN采用的陶瓷材料
铜基板:智威科技使用全面积高散热铜基板,实现最佳散热模式
原理:在芯片表面制造微小粗糙结构,破坏全反射条件
方法:湿法和干法相结合的表面粗化
效果:减少内部全反射和波导效应引起的光损失,提高外量子效率
原理:在生长GaN外延层前对衬底进行图形化处理
效果:改变光传播路径,减少界面反射和散射,提高光提取效率
透镜设计:添加合适透镜改变光发散角度,提高光利用率
荧光粉涂覆:实现波长转换,提高光转换效率和出光均匀性
采用倒装芯片技术,将GaN芯片直接焊接在封装基板上
使用高热导率陶瓷材料作为封装基板
减少引线键合带来的寄生参数和散热问题
采用大面积焊接取代传统打线导接
芯片上下两面均直接导接铜基板,实现双面散热
散热基板面积比高达150-180%,远超传统封装的40-120%
已通过国际大厂认证,突破车用温度测试
第一代:芯片级氮化镓半桥模块
第二代:QFN封装,更易使用,散热性能更好
第三代(2026年):3×3毫米模块,承受35安培电流,内置多种保护功能
Trinity技术:将三个电机相位集成到单个GaN芯片上,实现极高集成度
由Vertical Semiconductor开发的创新技术
采用垂直堆叠设计,使更多晶体管集成到单个芯片
支持更高电压,改善散热能力
具备"雪崩"自我保护机制,增强系统可靠性
从分立器件向模块化、系统级封装发展
EPC的"Trinity"技术将三相电机驱动集成到单芯片
2.5D/3D封装技术应用于GaN功率器件
液冷散热技术应用
高热导率材料创新
双面散热结构普及
新型热界面材料开发
高可靠性封装材料应用
适应高频特性的材料选择
垂直GaN晶体管技术突破
解决AI数据中心供电瓶颈
提高数据中心效率高达30%,降低功耗一半
热应力匹配问题:通过优化封装材料热膨胀系数,减少热循环引起的应力
高频性能保持:采用低寄生参数封装结构,减少信号损耗
可靠性提升:通过优化焊接工艺和材料,提高封装可靠性
成本控制:通过规模化生产和工艺优化,降低先进封装成本
GaN芯片先进封装技术正朝着更高集成度、更优散热性能、更高可靠性的方向发展,为GaN器件在功率电子、照明、通信等领域的广泛应用奠定坚实基础。
GaN芯片清洗- 锡膏助焊剂清洗剂介绍:
水基清洗的工艺和设备配置选择对清洗精密器件尤其重要,一旦选定,就会作为一个长期的使用和运行方式。水基清洗剂必须满足清洗、漂洗、干燥的全工艺流程。
污染物有多种,可归纳为离子型和非离子型两大类。离子型污染物接触到环境中的湿气,通电后发生电化学迁移,形成树枝状结构体,造成低电阻通路,破坏了电路板功能。非离子型污染物可穿透PC B 的绝缘层,在PCB板表层下生长枝晶。除了离子型和非离子型污染物,还有粒状污染物,例如焊料球、焊料槽内的浮点、灰尘、尘埃等,这些污染物会导致焊点质量降低、焊接时焊点拉尖、产生气孔、短路等等多种不良现象。
这么多污染物,到底哪些才是最备受关注的呢?助焊剂或锡膏普遍应用于回流焊和波峰焊工艺中,它们主要由溶剂、润湿剂、树脂、缓蚀剂和活化剂等多种成分,焊后必然存在热改性生成物,这些物质在所有污染物中的占据主导,从产品失效情况来而言,焊后残余物是影响产品质量最主要的影响因素,离子型残留物易引起电迁移使绝缘电阻下降,松香树脂残留物易吸附灰尘或杂质引发接触电阻增大,严重者导致开路失效,因此焊后必须进行严格的清洗,才能保障电路板的质量。
研发的水基清洗剂配合合适的清洗工艺能为芯片封装前提供洁净的界面条件。
运用自身原创的产品技术,满足芯片封装工艺制程清洗的高难度技术要求,打破国外厂商在行业中的垄断地位,为芯片封装材料全面国产自主提供强有力的支持。
推荐使用 水基清洗剂产品。
致力于为SMT电子表面贴装清洗、功率电子器件清洗及先进封装清洗提供高品质、高技术、高价值的产品和服务。 (13691709838)Unibright 是一家集研发、生产、销售为一体的国家高新技术、专精特新企业,具有二十多年的水基清洗工艺解决方案服务经验,掌握电子制程环保水基清洗核心技术。水基技术产品覆盖从半导体芯片封测到 PCBA 组件终端的清洗应用。是IPC-CH-65B CN《清洗指导》标准的单位。 全系列产品均为自主研发,具有深厚的技术开发能力,拥有五十多项知识产权、专利,是国内为数不多拥有完整的电子制程清洗产品链的公司。 致力成为芯片、电子精密清洗剂的领先者。以国内自有品牌,以完善的服务体系,高效的经营管理机制、雄厚的技术研发实力和产品价格优势,为国内企业、机构提供更好的技术服务和更优质的产品。 的定位不仅是精湛技术产品的提供商,另外更具价值的是能为客户提供可行的材料、工艺、设备综合解决方案,为客户解决各类高端精密电子、芯片封装制程清洗中的难题,理顺工艺,提高良率,成为客户可靠的帮手。
凭借精湛的产品技术水平受邀成为国际电子工业连接协会技术组主席单位,编写全球首部中文版《清洗指导》IPC标准(标准编号:IPC-CH-65B CN)(“Guidelines for Cleaning of Printed Boards and Assemblies”),IPC标准是全球电子行业优先选用标准,是集成电路材料产业技术创新联盟会员成员。
主营产品包括:集成电路与先进封装清洗材料、电子焊接助焊剂、电子环保清洗设备、电子辅料等。
半导体技术应用节点:FlipChip ;2D/2.5D/3D堆叠集成;COB绑定前清洗;晶圆级封装;高密度SIP焊后清洗;功率电子清洗。