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2025全球半导体行业技术进展与市场格局及 半导体清洗剂介绍

👁 1725 Tags:国产芯片清洗剂半导体芯片清洗剂AI芯片清洗剂

根据对2025年全球半导体行业的观察,这一年是技术全面跨越、供应链深度重构、产业协作空前加强的关键一年。在AI需求持续爆发的推动下,行业经历了从最前沿的2nm制程到支撑算力的先进封装,再到地缘政治影响下的全球布局调整等一系列深刻变化。

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下面的表格整理了2025年部分具有代表性的核心事件,帮助你快速把握重点。

事件领域核心事件概述关键进展/影响主要相关方
先进制程2nm工艺进入“量产元年”台积电、三星、英特尔均实现技术突破并开始量产,但产能初期主要用于高端客户。台积电、三星、英特尔
存储技术HBM4启动量产,竞争加剧SK海力士率先交付样品并进入量产阶段;三星与英伟达进行供应谈判,竞争白热化。SK海力士、三星、英伟达
先进封装产能大幅扩张与新技术布局CoWoS产能持续释放,台积电规划月产能上调;共封装光学(CPO)技术研发加速,为1.6T光互连铺路。台积电、长电科技、通富微电
AI芯片新一代产品发布,格局多元化英伟达发布Blackwell Ultra,AMD发布MI350系列;谷歌TPU等ASIC芯片在特定场景展现性能优势。英伟达、AMD、谷歌
产业生态SEMICON Taiwan升级为“国际半导体周”展会规模创纪录,吸引超1200家企业、10万人次参观;成立了3DIC先进封装制造联盟等组织。SEMI、全球半导体企业
全球产能布局晶圆厂建设从“疯狂扩产”转向“理性调整”全年新建18座晶圆厂(2024年为42座),投资更聚焦于AI所需的先进制程和汽车等成熟制程。台积电、英特尔、中芯国际等全球代工厂
供应链与政策地缘政治影响持续,供应链韧性受关注美国《CHIPS法案》资金出现调整;欧盟、日本等加大本土产业投资;中国在成熟制程持续扩产。各国政府、全球半导体企业

 技术突破:AI驱动下的全面跨越

2025年,为满足指数级增长的AI算力需求,半导体技术在各条战线上实现了关键突破。

  • 制程攀登新高峰:2nm制程之战落下帷幕,台积电、三星和英特尔均宣布进入量产阶段。但这更多是技术验证的胜利,由于初期产能极其有限且成本高昂,大规模普及需等到2026年及以后

  • 存储与互联革新:作为AI服务器的“内存瓶颈”解决方案,HBM4在2025年启动量产,SK海力士再次领先。同时,为应对芯片间巨大的数据传输需求,共封装光学(CPO) 技术从研发走向试点,被视为下一代降低功耗、提升带宽的关键

  • 算力芯片格局生变:除了英伟达和AMD发布新一代GPU,以谷歌TPU为代表的专用芯片(ASIC)凭借在特定场景下的能效优势,获得了更多关注,标志着AI算力市场走向多元化

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🌍 市场与供应链:在震荡中重构平衡

在全球政治经济格局变化下,半导体供应链的自主与安全成为比单纯效率更优先的考量。

  • 投资趋于理性与聚焦:相较于前几年的建厂热潮,2025年全球新建晶圆厂数量大幅减少,投资更加集中于为AI服务的前沿制程和为汽车电子服务的特色成熟制程

  • 区域化布局深化:各国继续推动本土芯片制造能力。美国《CHIPS法案》资金开始具体落地,欧盟设立光子芯片等试点线,日本大力支持本土企业Rapidus发展2nm技术,而中国大陆的产能扩张则主要集中在成熟制程

  • 中国技术攻关进展:有报道称,中国在极紫外光刻(EUV)等关键设备领域取得了原型机研发的进展

🤝 产业生态:协作成为主旋律

面对复杂的技术挑战和地缘环境,全球半导体产业表现出强烈的协作意愿。

  • SEMICON Taiwan成为全球枢纽:2025年,这一行业盛会升级为“国际半导体周”,其空前的规模和影响力凸显了台湾地区在全球供应链中不可替代的地位,也成为了全球行业精英交流协作的核心平台

  • 联盟推动标准与协同:展会期间,由SEMI牵头成立了 “3DIC先进封装制造联盟” ,并启动了全球首个半导体设备资安标准(SEMI E187)的认证。这种组织化、标准化的合作,旨在解决先进封装等复杂技术面临的共同挑战,提升整体产业韧性。

💎 总结与展望

总而言之,2025年的半导体行业在AI的强劲需求下,实现了制程、存储、封装等核心技术的代际跨越。同时,产业也在深刻调整:全球投资更加精准理性,供应链在效率与安全间寻求新平衡,而跨越国界和公司的技术协作变得比以往任何时候都更加重要。

展望2026年,2nm和HBM4的产能爬坡、CPO等新技术的商用化进程,以及主要国家和地区产业政策的实际效果,将继续塑造全球半导体格局。


半导体清洗剂- 锡膏助焊剂清洗剂介绍:

水基清洗的工艺和设备配置选择对清洗精密器件尤其重要,一旦选定,就会作为一个长期的使用和运行方式。水基清洗剂必须满足清洗、漂洗、干燥的全工艺流程。

污染物有多种,可归纳为离子型和非离子型两大类。离子型污染物接触到环境中的湿气,通电后发生电化学迁移,形成树枝状结构体,造成低电阻通路,破坏了电路板功能。非离子型污染物可穿透PC B 的绝缘层,在PCB板表层下生长枝晶。除了离子型和非离子型污染物,还有粒状污染物,例如焊料球、焊料槽内的浮点、灰尘、尘埃等,这些污染物会导致焊点质量降低、焊接时焊点拉尖、产生气孔、短路等等多种不良现象。

这么多污染物,到底哪些才是最备受关注的呢?助焊剂或锡膏普遍应用于回流焊和波峰焊工艺中,它们主要由溶剂、润湿剂、树脂、缓蚀剂和活化剂等多种成分,焊后必然存在热改性生成物,这些物质在所有污染物中的占据主导,从产品失效情况来而言,焊后残余物是影响产品质量最主要的影响因素,离子型残留物易引起电迁移使绝缘电阻下降,松香树脂残留物易吸附灰尘或杂质引发接触电阻增大,严重者导致开路失效,因此焊后必须进行严格的清洗,才能保障电路板的质量。

研发的水基清洗剂配合合适的清洗工艺能为芯片封装前提供洁净的界面条件。

运用自身原创的产品技术,满足芯片封装工艺制程清洗的高难度技术要求,打破国外厂商在行业中的垄断地位,为芯片封装材料全面国产自主提供强有力的支持。

推荐使用 水基清洗剂产品。

致力于为SMT电子表面贴装清洗、功率电子器件清洗及先进封装清洗提供高品质、高技术、高价值的产品和服务。 (13691709838)Unibright 是一家集研发、生产、销售为一体的国家高新技术、专精特新企业,具有二十多年的水基清洗工艺解决方案服务经验,掌握电子制程环保水基清洗核心技术。水基技术产品覆盖从半导体芯片封测到 PCBA 组件终端的清洗应用。是IPC-CH-65B CN《清洗指导》标准的单位。 全系列产品均为自主研发,具有深厚的技术开发能力,拥有五十多项知识产权、专利,是国内为数不多拥有完整的电子制程清洗产品链的公司。 致力成为芯片、电子精密清洗剂的领先者。以国内自有品牌,以完善的服务体系,高效的经营管理机制、雄厚的技术研发实力和产品价格优势,为国内企业、机构提供更好的技术服务和更优质的产品。 的定位不仅是精湛技术产品的提供商,另外更具价值的是能为客户提供可行的材料、工艺、设备综合解决方案,为客户解决各类高端精密电子、芯片封装制程清洗中的难题,理顺工艺,提高良率,成为客户可靠的帮手。

凭借精湛的产品技术水平受邀成为国际电子工业连接协会技术组主席单位,编写全球首部中文版《清洗指导》IPC标准(标准编号:IPC-CH-65B CN)(“Guidelines for Cleaning of Printed Boards and Assemblies”),IPC标准是全球电子行业优先选用标准,是集成电路材料产业技术创新联盟会员成员。

主营产品包括:集成电路与先进封装清洗材料、电子焊接助焊剂、电子环保清洗设备、电子辅料等。

半导体技术应用节点:FlipChip ;2D/2.5D/3D堆叠集成;COB绑定前清洗;晶圆级封装;高密度SIP焊后清洗;功率电子清洗。

 

 


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