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以下是关于多芯片组件(MCM)功率芯片封装流程及核心应用市场的综合分析,:
多芯片组件封装通过集成多个裸片(Die)实现高密度互连,核心流程包括以下关键环节:
基板制备与芯片减薄
基板类型:陶瓷(LTCC)、金属或高分子材料基板,通过厚膜/薄膜工艺构建多层互连结构。
晶圆减薄:芯片厚度需降至25–100μm(量产通常为35–50μm),采用超精密机械磨削+化学抛光,消除微裂纹和应力;60μm以下芯片需干法抛光(GDP)工艺避免损伤。
芯片堆叠与互连技术
引线键合(Wire Bonding):金丝/金带键合为主,需等离子清洗表面保障结合强度。
倒装焊接(Flip Chip):采用C4(可控塌陷芯片连接)或TSV(硅通孔),缩短信号路径并提升带宽。
膜埋线(WiF):将引线埋入芯片黏结膜(DAF),保护超低弧高键合线。
金字塔形:下层芯片支撑上层,工艺简单但仅适用异质芯片。
阶梯式回旋堆叠:同尺寸芯片多层堆叠,体积小且封装体强度高,避免焊线过长问题。
工字形/悬梁式:需添加间隔硅片,成本较高。
堆叠结构:
互连技术:
热管理与可靠性保障
散热设计:集成热界面材料(TIM)和微通道冷却结构,解决高功率密度下的热累积问题。
缺陷控制:KGD(确好芯片)筛选确保裸片良率,结合自动光学检测(AOI)监控焊接空洞、键合偏移等缺陷。
封装测试与切割
完成塑封后,进行电性能测试、老化测试及抗拉强度检测,最终切割为独立组件。
高端智能手机/穿戴设备:MCM集成存储器(NAND/NOR Flash+SRAM)、射频芯片,满足轻薄化与多功能需求1。
典型案例:5G调制解调器采用异质封装(CPU+基带芯片+存储器),缩短信号路径30%,功耗降低25%。
智能驾驶系统:毫米波雷达MMCM组件集成多颗ASIC/MMIC芯片,提升探测精度与抗干扰能力。
电动化控制:功率模块(如IGBT+SiC)多芯片封装优化热管理,支撑800V高压平台。
AI加速模块:3D TSV堆叠实现CPU/GPU/FPGA异构集成,算力密度提升3–5倍。
成本优势:MCM替代多块PCB,系统级成本降低15–30%。
抗辐射设计:陶瓷基MCM满足极端环境可靠性需求,应用于卫星通信和雷达系统。
当前瓶颈
超薄芯片 fragility:厚度<50μm时碎裂风险上升,依赖预剥离(PF)技术优化拾取工艺。
热管理复杂度:3D堆叠功率芯片热阻叠加,需液态金属冷却或微流道集成。
未来方向
TSV普及化:2025–2031年TSV成本下降,推动3D堆叠倒装封装在消费电子渗透率突破50%。
异构集成扩展:从存储器向“逻辑+传感+射频”多域融合,支撑边缘AI与6G通信。
AI驱动设计:EDA工具(如Synopsys 3DIC Compiler)实现多裸晶芯片协同优化,缩短开发周期40%。
多芯片组件(MCM)功率芯片清洗剂选择:
水基清洗的工艺和设备配置选择对清洗精密器件尤其重要,一旦选定,就会作为一个长期的使用和运行方式。水基清洗剂必须满足清洗、漂洗、干燥的全工艺流程。
污染物有多种,可归纳为离子型和非离子型两大类。离子型污染物接触到环境中的湿气,通电后发生电化学迁移,形成树枝状结构体,造成低电阻通路,破坏了电路板功能。非离子型污染物可穿透PC B 的绝缘层,在PCB板表层下生长枝晶。除了离子型和非离子型污染物,还有粒状污染物,例如焊料球、焊料槽内的浮点、灰尘、尘埃等,这些污染物会导致焊点质量降低、焊接时焊点拉尖、产生气孔、短路等等多种不良现象。
这么多污染物,到底哪些才是最备受关注的呢?助焊剂或锡膏普遍应用于回流焊和波峰焊工艺中,它们主要由溶剂、润湿剂、树脂、缓蚀剂和活化剂等多种成分,焊后必然存在热改性生成物,这些物质在所有污染物中的占据主导,从产品失效情况来而言,焊后残余物是影响产品质量最主要的影响因素,离子型残留物易引起电迁移使绝缘电阻下降,松香树脂残留物易吸附灰尘或杂质引发接触电阻增大,严重者导致开路失效,因此焊后必须进行严格的清洗,才能保障电路板的质量。
研发的水基清洗剂配合合适的清洗工艺能为芯片封装前提供洁净的界面条件。
运用自身原创的产品技术,满足芯片封装工艺制程清洗的高难度技术要求,打破国外厂商在行业中的垄断地位,为芯片封装材料全面国产自主提供强有力的支持。
推荐使用 水基清洗剂产品。